可以把这个提问理解成“一国造的光刻机现在达到多少纳米了”，回答时自然而然地与一个存在于中国的事实L系起来。
“中国的光刻机”？完全可以定义为：“一个国家不得不也不能不由自己制造的整机和部件技术与产品都达到自主的光刻机”，其中，“一个国家”即中国，“整机和部件技术与产品都达到自主的光刻机”包括低、中、高端、顶级的。毫无疑问，中国不得不自己制造光刻机的部件和整机，在经济、技术和制造全球化的过去和今天，这已是一个奇特、独特的现象，已经合力造出世界顶级光刻机的多个国当中的哪个国都不必像中国这样，中国，不仅被排除在那个“制造圈”之外，还被那多个国重重围堵、步步紧逼，被全面封锁技术至少开始于1996年，连低端光刻机的零部件竟然也被那多个国断供则是在2007年，如今是连 1 个高端的“引进消化吸收再创新”对象都没有，中国最顶尖的光刻机整机和部件制造企业不仅低端、中端、高端光刻机整机和部件的技术与产品都得自己研发、自己制造，还都得在整机即将造出来之前面临着、承受住国外大卖同一个端成品即市场份额被提前抢占的形势和压力，国内芯片制造企业包括最顶尖的也真的就花大钱大买啊！
当然，也是不得不、不能不，完全可以理解，包括理解他们一起抱憾不能更早地买到，还包括理解最顶尖的国内芯片制造企业至今仍在遗憾不能买到那台下了订单的比DUV光刻机贵得多的EUV高端光刻机；这也是一个既有、独有的事实，技术被封锁便、才自研，部件被断供便、才自造，中国的光刻机制造企业在2016年造出了低端、自主的光刻机，如今已经掌握了中端制造技术，中端、自主的光刻机将很快推出。作为一个现象，是暂时的，当然又是长期的，只有在中国自己造出的光刻机也达到了高端以及世界顶级这个新的事实出现时才会消失，以至永远消失；作为一个事实，是不可能被改变的，在中国必将永续，中国的光刻机制造企业必定矢志不渝地致力于打破多个国的技术封锁和产品阻遏，最终实现高端技术自供和高端产品自造，直至造就出一个新的世界顶级。其实，多个国同样早就很清楚这个现象存在的暂时性和这个事实出现的必然性，早就领教过新中国是怎么对待封锁和阻遏的嘛，见过的组织打破封锁和顶住阻遏的事也已经足够多，倒是也知道有一些中国企业特别是其所在行业不长记性、“不计前嫌”，不能矢志不渝地继承自主研发、自主创新的传统，甘愿一直走以及放弃走技工贸的路线，也就知道仍然封锁技术、提前大卖成品真能、就能奏效，屡试不爽。
“达到多少纳米了”？在2021年的现在，中国一国造的光刻机技术达到28纳米了，28纳米的中端整机产品也已经有了，只是还没有下线、量产，你只可以说还不是现实可用的28纳米整机成品，但完全可以说中端整机和部件制造技术已经全都是自主拥有的，让中国现在的中端芯片生产线上九大关键工艺设备都达到了中端自主的技术水平，全了、齐了！关键是技术难度最高的光刻机不再是中端芯片生产线上的技术短板了，还成为了自主水平最高的一块！
于是便可以说中端光刻机整机产品自供和他供——供给国内和国外——都必将是中国整体自主的。其中的供给国外是以自主化而非国产化、更非“国制化”（模仿买来的国外部件和整机制作出成品），以前所未有的姿态和形象融入全球化！无疑是一个崭新的现象。何况，没有国内光刻机制造企业已经自主拥有技术这个事实的话，就不可能有国内芯片制造企业提前买来荷兰ASML的DUV中端光刻机这个惯常的现象，多个国不也是不得不、不能不吗？！重要的是，国内芯片制造企业自用起来安全无忧，中芯国际买来、用上之后可放心大胆地扩大28纳米的产能、生产良品率达不到业界标准的7纳米国产芯片，并让国内芯片设计企业无后顾之忧，不会重蹈华为海思的覆辙，显然，现在的多少纳米是真正意义上的国产，国产因为如此的自主可控变得多么的纯粹，又是多么重要、多么可靠的中端技术基础和中端自主基础，可让国内光刻机部件制造和整机集成企业泰然自若、底气十足地迈向高端自主这个新的台阶。
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